点击图片查看大图
HA高效镀硬铬光亮剂 加入后，电流效率提高2-3倍，可大大提高阴极电流的利用率及镀槽的产量，镀层结晶细致光亮，如同镀亮镍后套铬，镀层达2u即可起亮。镀层应力小，孔隙率低，大大增加了镀层的耐磨性，以及对气体的密封性。
HA全光亮硬铬电镀工艺
一 特点
1、高阴极电流效率，可达22~27%。
2、高沉积速度，一般是传统镀铬的2~3倍。
3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。
4、镀层平滑，细致青亮。
5、高镀层硬度达HV900~1200。
6、高微裂纹数达1000条/寸。
7、镀层厚度均匀，有良好的分散能力、深镀能力。
8、镀液维护容易，控制简单。
9、无固体添加之铬尘和溅水现象。
10、无阳极腐败蚀，勿须使用特殊阳极。
11、一次可镀1000微米超厚镀层。
二、镀液配方和操作条件
成份及物理参数
范围
标准
铬酐
220~275克/升
250克/升
硫酸
2.4~4.0克/升
2.7克/升
温度
58~70℃
63℃
阴极电流密度
15~90 A/分米2
60A/分米2
阳极电流密度
15~35A/分米2
30A/分米2
三、镀液的配制
铬酐浓度
HA硬铬光亮剂Q
CrO3 250克/升
20ml/l
1、在槽中放入2/3的去离子水，按上表计算，将所需的铬酸、硫酸加入镀槽中。
2、按上表所需的HA硬铬光亮剂Q加入镀槽中。
3、添加去离子水，至所需之液位高度。
4、加热至55~60℃。
5、分析硫酸浓度，并调整至工艺规范。
6、电解4~6小时。
7、开始作业。
四、沉积速率（参考）
电流密度（安培/平方分米）
沉积速率（微米/小时）
30
20~35
45
45~50
60
60~70
75
80~95
注：沉积速率会随温度降低而稍微上升，但是光亮范围会相对变窄。
五、转缸与前处理
由一般传统的硬铬镀液转为HA全光亮镀硬铬的程序非常简单，只须将镀液送交本公司化验，经确定无机杂质不超过7.5克/升，同时不含氟化物、稀土，则本公司将协助客户将镀液转成HA全光亮镀硬铬之工艺。
HA全光亮镀硬铬之前处理与一般传统硬铬电镀相同，无需经过特殊程序的处理。
六、设备
镀槽（缸）：铁槽内衬软式PVC槽衬或其他认可材料如Koroseal均可。
阳 极：含7%锡的铅阳极，其他如铅锡、铅锑阳极亦可使用。
整 流 器 ：输出功率须可达到9~15伏特较为适当，同时输出电流之波纹应在5%以下。
温度控制 ：热交换器或冷却盘管，建议使用钛管或金属管披覆铁弗龙（Teflon）或碳氟化物（PVDF）为佳。
循环搅拌：良好的镀液循环，可促进镀液中化学成分和热分布均匀，循环过滤机材料建议使用不锈钢或适当的防腐蚀塑料。
七、添加剂的作用与补给
HA镀铬光亮剂（补）以每1000安培小时6毫升补加，溶液蒸发量大，带出量大补加偏高，
反之偏低。
铬酸以每1000安培小时添加120~150克.。
